在前面的一些指紋門禁一體機中描述了計算某圖像塊的平均紋路周期的方法，指紋圖像的平均周期可以計算為前景圖像塊的紋路周期的平均值，但其中計算特定圖像塊的平均周期時投影窗口的尺寸遠大于圖像塊的尺寸，紋路方向可能會在投影窗口中發(fā)生較大變化，從而影響平均周期的正確計算；另一方面，投影窗口的尺寸遠大于圖像塊的尺寸會使得圖像塊被重復(fù)投影，也會影響平均周期的正確計算。鑒于此，本節(jié)首先將指紋圖像JA6分為不相交的尺寸較大的的矩形區(qū)域，并計算每一區(qū)域P的局部周期信息，然后根據(jù)局部周期信息計算平均周期。計算局部周期信息的基本方法是：先計算出一條穿過該區(qū)域中心的曲線，使該曲線上每一點(，y)的切線方向和o(，7)垂直，只考慮曲線上位于區(qū)域W內(nèi)的曲線段。在前面的一些實驗中給出了指紋平均周期的計算方法以及基于平均周期的分類方法。實驗結(jié)果表明：基于平均周期的系統(tǒng)穿透系數(shù)小于H叫模式理想情況下的系統(tǒng)穿透系數(shù)。使用平均周期的一個好處是：對于任何指紋都能計算出平均周期，不會被拒絕分類：而Henv模式下對于沒有核心點的圖像將會被拒絕分類。另一個好處是：使用平均周期分類時類與類之間的距離可度量，可以使用平均周期之差作為距離，從而在數(shù)據(jù)庫中搜索與輸入指紋匹配的指紋時可以從與輸入指紋距離最小的類開始進行理索；而H。呵模式下類與類之間的距離不可度量。第三個好處是：平均周期可以容易地和其他特征結(jié)合在一起進行指紋分類。